Hitachi Chemical

2005年度 高分子学会日立化成賞 受賞者決定

2005年10月12日
日立化成工業株式会社

このたび、社団法人高分子学会の2005年度「日立化成賞」(SPSJ Hitachi Chemical Award)受賞者が決定し、去る9月21日に開催された高分子討論会(於:山形大学)において授賞式が行われました。

この賞は、当社が高分子学会へ提案して本年度より創設されたもので、高分子化学分野における研究開発への貢献や若手研究者の支援などを目的としています。申請時に40歳未満の高分子学会員を対象とし、エレクトロニクス材料のみならず広く機能性高分子(応用に限らず新しい高分子の創成といった基礎的な研究も対象とする)に関する独創的かつ優れた研究業績を挙げた研究者個人に贈られます。

厳正なる審査の結果、本年度は以下の2名の方々が受賞され、それぞれの方に賞状、盾及び副賞賞金(50万円)が授与されました。

2005年度 高分子学会日立化成賞受賞者
受賞者 研究テーマ
有光 晃二 氏
(東京理科大学理工学部工業化学科助手)
酸・塩基増殖反応の開発とそのフォトポリマーへの応用
中川  勝 氏
(東京工業大学資源化学研究所助教授)
精密化学めっきのために設計された高分子組織体表面