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感光性フィルム「フォテック」 厚膜レジスト形成用HMシリーズ

厚膜レジスト形成用HMシリーズのイメージ画像

高アスペクト比の厚膜レジストが形成可能な感光性フィルムです。
メタルマスク製造などの電鋳用に使用できます。

特長

  • 解像度・密着性に優れ、高アスペクト比のレジストが形成可能。
  • 用途に応じた膜厚ラインアップを展開しています(膜厚35〜200μm,要相談)。
  • レジストのサイドウォール形状が優れるため、良好なめっきライン形状が形成可能。
(測定値の一例)
項目 単位 HM-4000シリーズ
(コンタクト露光機対応品)
HM-6000シリーズ
(直描露光機対応品)
HM-4056 HM-4075 HM-40112 HM-6050 HM-60100
レジスト膜厚 μm 56 75 112 50 100
露光量 mJ/cm2 85 130 270 150 500
超高圧水銀ランプ*1 直描露光機(355nm)*2
密着性(L/S=x/400) μm 22 35 32 25 45
解像度(L/S=x/x) μm 25 35 50 25 60
*1:
平行光露光機
*2:
直描露光機:日本オルボテック(株)

レジスト形成例


HM-4056
レジスト膜厚:56μm
Φ=30μm


HM-40112
レジスト膜厚:112μm
L/S=180/30μm

HM-40112
レジスト膜厚:112μm
レジスト直径:Φ=30μm (スペース:40μm)

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